在半導(dǎo)體制造中，噴涂工藝的精度和可靠性直接影響芯片的質(zhì)量與性能。無(wú)論是光刻膠的均勻涂覆、清洗液的精細(xì)霧化，還是功能性材料的精準(zhǔn)沉積，都需要噴嘴具備高的穩(wěn)定性、耐腐蝕性和抗堵塞能力。Atomax二流體噴嘴憑借其技術(shù)特性，成為半導(dǎo)體行業(yè)高精度噴涂的理想選擇，為先進(jìn)制程提供可靠保障。
1. 超高精度霧化，滿(mǎn)足半導(dǎo)體微米級(jí)工藝需求
Atomax噴嘴采用先進(jìn)的二流體霧化技術(shù)，能夠?qū)⒁后w破碎成幾微米的超細(xì)液滴，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)均勻分布。例如，在光刻膠噴涂中，Atomax噴嘴可替代傳統(tǒng)旋涂工藝，以極低的流量精準(zhǔn)控制膠液覆蓋，避免材料浪費(fèi)，同時(shí)確保晶圓表面形成無(wú)缺陷的均勻薄膜。其霧化粒徑可精確調(diào)控，適應(yīng)不同工藝的需求，為光刻、蝕刻等關(guān)鍵制程提供穩(wěn)定支持。
2. 高純度耐腐蝕材料，確保長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行
半導(dǎo)體制造涉及多種強(qiáng)酸、強(qiáng)堿及有機(jī)溶劑，普通噴嘴易受腐蝕，導(dǎo)致雜質(zhì)析出，影響芯片良率。Atomax噴嘴采用PEEK樹(shù)脂、SUS316L不銹鋼等高性能材料，具有強(qiáng)的耐化學(xué)腐蝕性，可長(zhǎng)期耐受各類(lèi)清洗劑、蝕刻液及功能性涂料，避免污染風(fēng)險(xiǎn)。此外，其材料具備優(yōu)異的耐高溫性能，適用于CVD、PVD等高溫沉積工藝，確保在嚴(yán)苛環(huán)境下仍能穩(wěn)定工作。
3. 抗堵塞設(shè)計(jì)，保障連續(xù)生產(chǎn)
傳統(tǒng)噴嘴在噴涂高粘度液體或漿料時(shí)容易堵塞，導(dǎo)致工藝中斷，增加維護(hù)成本。Atomax噴嘴采用外置混合結(jié)構(gòu)+大孔徑流路設(shè)計(jì)，液體通道為直線(xiàn)型，無(wú)內(nèi)部滯留區(qū)域，堵塞風(fēng)險(xiǎn)極低。其噴霧孔徑比普通噴嘴大10~200倍，可輕松處理高粘度光刻膠、漿料及納米顆粒懸浮液，大幅減少停機(jī)清洗頻率，提升生產(chǎn)效率。
4. 靈活可控，適配多樣化半導(dǎo)體工藝
精準(zhǔn)流量調(diào)節(jié)：支持超低流量霧化(可低至毫升/分鐘級(jí)別)，滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造中對(duì)微量噴涂的嚴(yán)苛要求。
模塊化設(shè)計(jì)：體積小巧，易于集成到現(xiàn)有設(shè)備，適用于空間受限的晶圓清洗、噴涂系統(tǒng)。
定制化服務(wù)：可根據(jù)工藝需求調(diào)整噴嘴孔徑、噴霧角度及流量參數(shù)，適配不同制程的噴涂需求。
5. 實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景
光刻膠噴涂：替代旋涂，減少材料浪費(fèi)，提升均勻性。
晶圓清洗：超細(xì)霧化清洗液，實(shí)現(xiàn)高效去污，避免損傷微結(jié)構(gòu)。
功能性涂層沉積：精準(zhǔn)控制薄膜厚度，提升CVD/PVD工藝質(zhì)量。
結(jié)語(yǔ)
Atomax二流體噴嘴以高精度霧化、強(qiáng)耐腐蝕、抗堵塞、長(zhǎng)壽命等核心優(yōu)勢(shì)，成為半導(dǎo)體行業(yè)噴涂工藝的可靠伙伴。無(wú)論是提升良率、降低耗材成本，還是優(yōu)化制程穩(wěn)定性，Atomax都能提供解決方案。選擇Atomax，讓您的半導(dǎo)體制造工藝更精準(zhǔn)、更高效！
