離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析

發(fā)布日期：2023-06-26      瀏覽次數(shù)：1044

離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析

離子濺射儀的鍍膜的主要方式有兩種：熱蒸發(fā)和離子濺射（包括直流濺射和磁控濺射）。

 熱蒸發(fā)是通過(guò)對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積到樣品表面并形成膜。




離子濺射是將靶材、樣品均置于真空室中；首先進(jìn)行抽真空，實(shí)現(xiàn)輝光放電所需的低氣壓環(huán)境；靶材接高壓，為負(fù)極；樣品臺(tái)接地，為正極；靶材與樣品臺(tái)之間形成高壓電場(chǎng)，電離氣體；氣體電離后，正離子飛向負(fù)極，轟擊靶材，靶材原子被濺射飛出，沉積到樣品上形成導(dǎo)電膜。






MSP-1S

該設(shè)備專(zhuān)用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀(guān)察。 該裝置進(jìn)行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進(jìn)行低壓放電外，樣品臺(tái)是浮動(dòng)的，減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡(jiǎn)單，只需按一下按鈕，就沒(méi)有技巧。 它很小，不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
用途
用于 SEM 樣品的金屬涂層設(shè)備。

關(guān)于目標(biāo)金屬

當(dāng)您下第一個(gè)訂單時(shí)，您將收到您選擇的一個(gè)貴金屬目標(biāo)。
請(qǐng)根據(jù)使用目的選擇。


AU：黃金觀(guān)察區(qū)域：10，000~10，000倍 Au-PD：金鈀

觀(guān)察區(qū)域：10，000~50，000倍
非常適合
低倍率觀(guān)察和良好的對(duì)比度。

鉑：鉑金 觀(guān)察區(qū)域：50，000~100，000次 Pt-PD：鉑鈀

觀(guān)察區(qū)域：30，000~50，000倍
它具有細(xì)
粒度，通常用于高倍率觀(guān)察。